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    超純水設備核心技術解析

    時間:2024-10-30

      在全球數字化加速轉型和信息科技競爭加劇的背景下,芯片需求旺盛,導致相關產業鏈產能提升。特別是超純水設備在芯片生產中的重要性,因為芯片制造過程中幾乎每道工序都需要超純水清洗。當前芯片產業使用的超純水設備的核心技術,包括反滲透工藝、EDI模塊和拋光混床工藝,這些技術共同確保了超純水的高品質,滿足了芯片行業的嚴格用水需求。

    超純水設備

      超純水設備核心技術解析:

      反滲透工藝: 反滲透是一種借助于選擇性膜的功能以壓力為推動力的膜分離技術,它能夠有效去除水中溶解鹽類、有機物等,降低離子含量,確保出水水質的安全與純凈。

      EDI模塊: 通過電滲析的方式連續產生超純水,進一步提升了超純水設備的性能。該過程無需酸堿再生,自動化程度高,出水電阻率≥17MΩ·CM。

      拋光混床工藝: 這是一種專門用于高純度水處理系統的終端精制技術,能夠將水中的離子含量降低至很低的水平,出水電阻率可達18MΩ·CM以上。

      綜上所述,超純水設備通過反滲透、EDI模塊以及拋光混床等一系列先進的水處理工藝,不僅能夠有效去除水中的各種雜質和有害物質,還能確保出水水質達到甚至超過行業高標準,為各領域的精密應用提供了可靠的水質保障。

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      編輯:虞美人   技術:加菲

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